研究プログラム
EUVマスクプログラム
最新研究成果
| 発表日 | 発表者 | タイトル | 発表雑誌・機関等 |
|---|---|---|---|
| 2010.4.13 | 雨宮光陽 太田和哉 田口孝雄 須賀治 |
異物検査で発生する計数誤差の検討 | フォトマスクジャパン2010 |
| 2010.4.13 | 加茂隆 | 多層膜加工方式の遮光帯付き薄膜吸収体EUVマスクとリソグラフィー性能 | フォトマスクジャパン2010 |
| 2010.4.13 | 山根武 田中稔彦 寺澤恒男 須賀治 |
Actinic EUVL mask blank inspection capability with delay integration mode | フォトマスクジャパン2010 |
| 2010.4.13 | 天野剛 | FIB-CVD技術を利用したEUVマスク修正 | フォトマスクジャパン2010 |
| 2010.3.17 | 加茂隆 | EUV露光における複数ショット寸法計測手法によるマスク欠陥転写評価 | 2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会 |
| 2010.3.17 | 雨宮光陽 太田和哉 田口孝雄 須賀治 |
EUVリソグラフィマスクへの付着異物の計数技術：計数誤差の検討 | 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会 |
| 2010.3.17 | 山根武 田中稔彦 寺澤恒男 須賀治 |
EUVマスクブランクス検査における欠陥検出性能の向上 | 2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会 |
| 2010.3.17 | 寺澤恒男 山根武 茂村弘之 須賀治 |
EUVリソグラフィにおける検査計測の課題 | 2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会 ｼﾝﾎﾟｼﾞｳﾑ(半導体Aｼﾘｺﾝ） |
| 2010.2.25 | 太田和哉 田口孝雄 米川雅見 須賀治 |
Evaluation Results of a New EUV Reticle pod based on SEMI E152 | SPIE Advance Lithography 2010 |
| 2010.2.23 | 加茂隆 | EUVマスクの吸収体欠陥とパターンラフネスが転写像へ及ぼす影響 | SPIE アドバンストリソグラフィー 2010 |
| 2010.2.22 | 寺澤恒男 山根武 田中稔彦 須賀治 加茂隆 森一朗 |
Actinic phase defect detection and printability analysis for patterned EUVL mask | Proceedings of SPIE |
| 2010.1.18 | 山根武 岩崎照雄 田中稔彦 寺澤恒男 須賀治 富江敏尚 |
Actinic EUVL mask blank inspection and phase defect characterization | European Mask and Lithography Conference 2010 |