研究プログラム
EUVリソグラフィプログラム
最新研究成果
| 発表日 | 発表者 | タイトル | 発表雑誌・機関等 |
|---|---|---|---|
| 2010.7.12 | 田中稔彦 有澤幸恭 宇野太賀 青山肇 |
hp22nmに向けたフレア補正技術の開発 | NGL 2010 |
| 2010.7.12 | 俵山和雄 | Seleteにおける露光装置の性能評価状況 | 次世代リソグラフィワークショップ (NGL 2010) |
| 2010.3.17 | 俵山和雄 | フルフィールドEUV露光装置の限界解像性能評価 | 2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会 |
| 2010.2.24 | 田中雄介 青山肇 俵山和雄 馬越俊幸 河村大輔 松永健太郎 加茂隆 有澤幸恭 宇野太賀 田中裕之 中村直文 曽田栄一 小田典明 斎藤修一 森一朗 |
Fabrication of 35-nm via-hole patterns for interconnect test chips with EUV lithography. | SPIE Advanced Lithography 2010 |
| 2010.2.23 | 俵山和雄 | Process Liability evaluation for beyond 22nm Node using EUV | SPIE Advanced Lithography |
| 2010.2.21 | 井谷俊郎 金山幸司 松永健太郎 白石豪介 ジュリウス サンティリャン |
Alternative resist processes for LWR reduction in EUVL | International Symposium on Advanced Lithography 2010 |