| 発表日 |
発表者 |
タイトル |
発表雑誌・機関等 |
| 2010.8.4 |
平本俊郎 |
トランジスタ特性ばらつきについて |
日本半導体ロードマップ委員会(STRJ) FEP-WG会議 |
| 2010.7.28 |
竹内潔 |
TCADを用いたトランジスタのばらつき解析 |
日本学術振興会 半導体界面制御技術第154委員会 研究会 |
| 2010.7.20 |
角村貴昭 |
Possible Origins of Extra Threshold Voltage Variability in N-Type Field-Effect Transistors by Intentionally Changing Process Conditions and Using Takeuchi plot
|
日本応用物理学会誌 |
| 2010.6.16 |
角村貴昭 |
Analysis and Prospect of Local Variability of Drain Current in Scaled MOSFETs by a New Decomposition Method
|
2010 Symposium on VLSI Technology |
| 2010.5.21 |
角村貴昭 |
Investigation of Threshold Voltage Variability at High Temperature Using Takeuchi Plot |
日本応用物理学会誌 |
| 2010.5.13 |
最上徹 |
ばらつき可視化によるロバストデバイス設計への挑戦 |
電子情報通信学会 北陸支部 講演会 |
| 2010.5.13 |
西田彰男 |
シリコンMOSFETのアトムプローブ解析の現状 |
電子情報通信学会 北陸支部 講演会 |
| 2010.4.26 |
蒲原史郎 |
Variation; Key issue of the Advanced CMOS & LSI’s |
International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications |
| 2010.4.19 |
竹内潔 |
LSIの微細化を阻むランダムばらつき問題の現状 |
日経エレクトロニクス |
| 2010.4.13 |
最上徹 |
Perspective of CMOS Technology and Future Requirements |
Photomask Japan 2010 *the Guest Editorial Team of Proc. of theIEEE |
| 2010.3.17 |
角村貴昭 |
プロセス条件依存性によるしきい値ばらつき原因解析 |
2009年春季 第57回応用物理学関係連合講演会 |
| 2010.3.12 |
平本俊郎 |
Variability Research: Accomplishments and Future Directions – a Japanese Perspective |
DATE Workshop "The Fruits of Variability Research in Europe" |
| 2010.2.21 |
平岩篤 |
Statistically accurate analysis of line width roughness based on discrete power spectrum |
SPIE Advanced Lithography 2010 |
| 2010.1.28 |
竹内潔 |
設計者目線でのバラツキ理解 |
厳選LSI設計技術@EDSF2010-超微細化時代のLSI設計と検証ー |
| 2010.1.22 |
平本俊郎 |
トランジスタ特性ばらつきの現状と要請 |
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第117会研究集会 |
