公開情報
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| [2008年6月10日(火)] | 微細なメタルゲート/高誘電率ゲート絶縁膜CMOSの製造に適した新しいミリ秒熱処理の開発に成功 - Flexibly-Shaped-Pulse Flash Lamp Annealing: FSP-FLA - |
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| [2008年6月10日(火)] | 金属ゲート/高誘電率ゲート絶縁膜を用いたCMOSの信頼性改善とそのメカニズム解明 | |
| [2008年6月10日(火)] | メタルゲート/高誘電率ゲート絶縁膜を用いたCMOSゲートスタック構造の最適化 | |
| [2008年5月30日(金)] | 低誘電率絶縁膜と融合したカーボンナノチューブ配線ビアで高電流密度耐性を観測 （世界初） 銅配線を上回る高信頼性配線の実現へ道 |
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| [2008年5月27日(火)] | 高信頼性 多結晶Ru／非晶質Ru積層バリアメタル技術の開発 | |
| [2008年4月17日(木)] | 高精度コンパクトストレスモデルの開発 | |