◆SeleteSymposium 2006◆

2006年5月30日（火）パシフィコ横浜で開催予定です。プログラム詳細および参加受付は、4月に入ってから専用ホームページにてご案内いたします。

◆ CPL (Charged Particle Lithography) Workshop◆
2005年9月23日 オーストリア・ウィーンで、CPL (Charged Particle Lithography) Workshopが開催されました。

講演データはこちら→

◆ 年次報告書2004年度版(PDF 1,224KB) (2005.11.17)
◆ 「OASIS.NEO入力共通API仕様　Version 1.2」
日本語版 (374KB) ／ 英語版(308KB)　(2005.9.14)
◆ 「VSB方式EB装置用マスクデータフォーマットOASIS.VSB Version1.1」
「EBジョブデックフォーマット MALY Version1.2」公開について(2005.4.11)
◆ 「Selete News Winter 2005」ダウンロード(PDF 1,121KB) (2005.1.31)
◆ 「Selete News Autumn 2004」ダウンロード(PDF 1,203KB) (2004.11.12)
◆ プレスリリース「次世代CMOS（hp65nm対応）の基幹プロセス･セットの開発を完了」ダウンロード(PDF 943KB) (2004.10.27)
◆ 「OASIS.NEOツールキット」 (2004.10.25)
◆ 「VSB方式EB装置用マスクデータフォーマット OASIS.NEO Version 1.0 」
日本語版 (217KB) ／ 英語版(139KB)　(2004.10.25)
◆ 「EBハンドリングデータフォーマット GDSⅡ. NEO Version1.2」
「EBジョブデックフォーマット MALY Version1.1」公開について(2004.10.25)
◆ 「Selete News Summer 2004」ダウンロード(PDF 1,023KB) (2004.7.14)
◆ 年次報告書2003年度版(PDF 2,304KB) (2004.6.10)
◆ 「Selete Symposium 2004」講演データ (2004.5.28)
◆ 「Selete News Spring 2004」ダウンロード(PDF 1,153KB) (2004.4.22)
◆ High-k Gate Stack Technology for 65nm LSTP (PDF 1,882KB) (2004.3.2)
◆ 「Selete News Winter 2004」 ダウンロード(PDF 1,943KB)(2004.2.12)
◆ 先端CMOS用High-kゲート絶縁膜技術 (PDF 1,624KB) (2004.1.8)