selete 株式会社 半導体先端テクノロジーズ
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 当社は1996年に半導体企業10社の均等出資を得て、300mmウエーハ装置を用いる生産技術の開発コンソーシアムとして創立されました。

Selete: Semiconductor Leading Edge Technologies
What's new
[最新研究成果] EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシン インテグレーションの基礎検討 2010年2月5日(金)
[イベント] Selete Symposium 2010を開催致します。 2010年1月27日(水)
[最新研究成果] La酸化物及びY酸化物キャッププロセスによるHfO2膜結晶構造の変化 2010年1月22日(金)
[最新研究成果] 希フッ酸溶液処理によるHf系高誘電率ゲート絶縁膜にドープした希土類酸化物のフッ化とそのMOS-FETプロセスへの影響 2010年1月22日(金)
What's new
お知らせ
Selete Symposium 2010 2010年1月27日(水)
EUVL Symposium2007が2007年10月29日(月)〜31日(水)札幌コンベンションセンターにて開催されます。 2007年8月6日(月)
MIRAIプロジェクト・ホームページ内のM/Cネットページへのリンクを掲載いたしました。 2007年5月29日(火)
コーポレートロゴを変更しました。 2006年4月1日(土)
お知らせ